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顺捷兴 一 您身边的CVD回转窑专家
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山东顺捷兴智能装备有限公司
我公司技术团队由美国留学专家和日本回转炉专家领衔研发设计,核心技术成员来自各国家机构及国内外顶尖高校,安装调试及售后技术人员,拥有数百批次公斤级至百公斤级等各类材料的化学气相沉积(CVD)碳包覆、硅包覆等、正负极材料如石墨、硅负极(氧化亚硅、纳米硅、多孔硅,多孔碳)、磷酸铁锂、新型硅碳、碳纳米管、分子筛等材料的研发、实验经验,依托于高新技术和丰富的实践经验并以此为设计基础,针对客户需求,打造出高温烧结、化学气相沉积(碳包覆,硅沉积)、气相沉积碳调孔等工艺所需高温烧结设备。 高效稳定且向用户提供满意适用的优质产品。 硬碳材料干燥、高温烧结碳化,气相沉积设备系统的研发、生产与销售,各类高温烧结设备的技术改造升级、合作开发、物料实验,提供工艺、产能、外观定制等服务。
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掺杂对多孔碳的影响
氮(N)掺杂多孔碳N掺杂的主要目的是操纵材料的电带结构,特别是费米级、带隙和电荷分布。另一方面,表面掺杂旨在改变多孔碳的表面特性,包括基本特性、结合强度和润湿能力。在掺杂杂原子的石墨烯中,由于二维结构中的核心掺杂和表面掺杂之间没有明显的界限,因此二者之间的区别变得非常明显。
넶22 2025-03-04 -
什么是CVD化学气相沉积
CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应。化学气相沉积CVD是指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等。是一个颇具特征的技术领域。
넶18 2025-03-04
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2025-03-04
넷 气相沉积的优缺点
- 2025-03-04
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